皱，导致后续ALD沉积基底不平整。
经过试验，他们最终采用双层PMMA保护，先旋涂300 nm PMMA，再覆盖50 nm PDMS增强机械强度。
最后，再用低电压剥离，电压≤1 V，电解液温度控制在25±2°C，以此来减少应力损伤。
“嗯，撕裂问题搞定了。”
许青舟目光扫过一排排数据，满意点头，可10分钟过去，他视线停下。
【EDS显示Nb:Sn = 3.5:1± 0.2。】
“Nb:Sn原子比偏离±17%。”
许青舟向后靠在椅子上，揉了揉太阳穴。
“是的，临界温度从理论18 K降至15 K，4.2 K/12 T下临界电流密度仅5×10 A/cm。”
卡森无奈地说道：“除了这点，等离子体还原效率不足，H等离子体功率80 W时，Sn占比仅80%，残留SnO导致超导相纯度降至70%。”
“交给我吧。”
许青舟微微点头，看了眼时间，已经下午四点，随即说道：“这段时间大家辛苦，当然，比起这句话，两天的假期估计会让你们开心。”
“老板，晚上一起去喝一杯？”卡森起身邀请。他的理念，该放纵就放纵。
“你们玩儿，我还有其他事情。”许青舟笑着摇头，脑海里还在思索该怎么搞定这轮实验中的问题。
“行吧。”
卡森不强求，知道许青舟估计忙着考虑实验问题，他的目光看向马尔斯和孙思敏。
孙思敏赶紧摇了摇头，酒吧什么的，在她心里不是好地方。
“我”
马尔斯虽然很想去放纵，但望着面前的《Partial Differential Equations（偏微方程）》，无奈地耸耸肩：“我还得完成教授给的要命任务。”
10月3日，许青舟会对他们进行测试，通过才能留在课题组。
“OK，很遗憾，你们错过了一场狂欢。”
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